纳米集成电路制造工艺(第2版)

作者: 张汝京 等

出版社: 清华大学出版社

出版日期: 2017-01-01

  • 优惠券
  • ¥3
    ¥10
    ¥30
    ¥70
  • 领券
电子书 ¥62.88 定价:89.0 纸书价格¥71.20,点此比价
  • 收藏

  • 加书架

  • 引用

简介

本书共19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等内容。 再版时加强了半导体器件方面的内容,增加了先进的FinFET、3D NAND存储器、CMOS图像传感器以及无结场效应晶体管器件与工艺等内容。

编辑推荐

超大规模集成电路的生产工艺,从“微米级”到“纳米级”发生了许多根本上的变化。甚至,从45nm缩小至28nm(以及更小的线宽)也必须使用许多新的生产观念和技术。 张汝京先生是随着半导体产业的发展成长起来的领军人物,见证了几个技术世代的兴起与淘汰。他本人有着深厚的学术根基,以及丰富的产业经验,其带领的团队是多年来在**半导体代工厂一线工作的科研人员,掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角,相信会给读者带来启发和帮助。

更多出版物信息
  • 版权: 清华大学出版社
  • 出版: 2017-01-01
  • 作者:张汝京 等
  • 更新: 2023-06-07
  • 书号:9787302452331
  • 中图:TN405
  • 学科:
    工学
    电子科学与技术
    工学
    信息与通信工程
    交叉学科
    集成电路科学与工程

作者信息

张汝京 等

张汝京(Richard Chang),1948年出生于江苏南京,毕业于台湾大学机械工程学系,于布法罗纽约州立大学获得工程科学硕士学位,并在南方卫理公会大学获得电子工程博士学位。曾在美国德州仪器工作20年。他成功地在美国、日本、新加坡、意大利及中国台湾地区创建并管理10个集成电路工厂的技术开发及运营。1997年加入世大集成电路(WSMC)并出任总裁。2000年4月创办中芯国际集成电路制造(上海)有限公司并担任总裁。2012年创立昇瑞光电科技(上海)有限公司并出任总裁,主要经营LED等及其配套产品的开发、设计、制造、测试与封装等。2014年6月创办上海新昇半导体科技有限公司并出任总裁, 承担国家科技重大专项(简称“02专项”)的核心工程——“40—28纳米集成电路制造用300毫米硅片”项目。张博士拥有超过30年的半导体芯片研发和制造经验。2005年4月,荣获中华人民共和国国务院颁发国际科学技术合作奖。2006年获颁中国半导体业领军人物称号。2008年3月,被半导体国际杂志评为2007年度人物并荣获SEMI中国产业卓越贡献奖。2012年成为上海市千人计划专家。2014年于上海成立新昇半导体科技有限公司,从事300毫米高端大硅片的研发、制造与行销。

相关图书