纳米数字集成电路的偏差效应分析与优化:从电路级到系统级

作者: 靳松、韩银和

出版社: 清华大学出版社

出版日期: 2019-06-01

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简介

晶体管特征尺寸随着制造工艺的进步而不断缩小。这种趋势虽然提高了芯片的性能,却恶化了集成电路的参数偏差效应,对电路在其服役期内的可靠性造成了严重的威胁和挑战。本书主要涉及在纳米工艺下较为严重的晶体管老化效应G负偏置温度不稳定性和制造过程中引起的参数偏差。介绍了参数偏差效应产生的物理机制及对电路服役期可靠性的影响,并提出了从电路级到系统级的相应的分析、预测和优化方法。

编辑推荐

本书可作为大规模集成电路设计或可靠性设计工程师的参考资料,也可作为电子专业研究生的参考书。

更多出版物信息
  • 版权: 清华大学出版社
  • 出版: 2019-06-01
  • 作者:靳松、韩银和
  • 更新: 2023-07-10
  • 书号:9787302522997
  • 中图:TN431.2
  • 学科:
    工学
    电子科学与技术
    工学
    信息与通信工程
    交叉学科
    集成电路科学与工程