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简介
本书首先对目前各种光刻技术的原理、方法和特点进行描述与分析比较，由此引出本书的主题——激光热敏光刻； 然后详细阐述激光热敏光刻的物理过程、仪器系统、光刻策略、用于超越光斑尺寸的纳米光刻、跨尺度光刻、宽波段光刻、分辨率极限光刻、灰度图形光刻，以及图形转移的方法和相应的实验结果及应用事例。希望本书阐述的内容能从另一个角度分析和理解光刻，从而给目前的光刻技术带来变革性影响，以满足未来个性化和智能化的微电子芯片与微纳结构光电子器件的需求。
编辑推荐
本书受国家出版基金资助，是“十四五”时期国家重点出版物出版专项规划?重大出版工程规划项目。通过阅读本书读者能够了解最新的变革性光刻技术。
更多出版物信息
- 版权： 清华大学出版社
- 出版： 2022-08-01
- 更新： 2022-11-16
- 书号：9787302607458
- 中图：TN305.7
- 学科：工学电子科学与技术工学信息与通信工程
