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简介
本书从原子、分子水平阐述表面结构,讨论材料表面物理、化学现象以及对技术学科发展的影响,强调基本概念。重点讨论表面原子迁移扩散、表面电子结构及表面原子几何排列这三个基础内容;把工程中各种表面现象概括为三个主要类型,分别讨论了以吸附、催化为代表的气-固界面,半导体和光电器件中的固-固界面以及以摩擦为代表的运动状态下接触界面。同时,分别介绍了几种最常用的表面分析技术,包括测定表面原子几何的低能电子衍射(LEED) ,测定表面元素组成的俄歇电子谱(AES) ,鉴别表面元素化学态的X射线光电子谱(XPS) ,以及获取表面分子结构信息的静态次级离子质谱(SSIMS) 。介绍这些表面分析技术时,重点讨论粒子束与表面相互作用,表面元激发过程及其在表面结构表征中的信息内容,为识谱和分析、理解表面物理、化学问题奠定基础。本书可作为物理化学、材料、半导体、催化、摩擦学、光电器件及微纳米机械等专业高年级本科生及研究生教材;对于航天、信息、能源、环境、化工及机械等技术学科领域内从事材料表面科学研究的教师、研究人员及工程技术人员,本书也有很好的参考价值。
更多出版物信息
- 版权: 清华大学出版社
- 出版: 2009-12-01
- 更新: 2023-10-13
- 书号:9787302208365
- 中图:TB303;TG17
- 学科:工学材料科学与工程