“本书缘起于2008年底，是时本书作者刚离开奋斗了5年的平板显示产业界并加入到上海交通大学电子工程系。在着手开展氧化物TFT相关科研工作的同时，我也决心在上海交通大学开设与薄膜晶体管技术相关的本科和研究生课程。” 董承远现执教于上海交通大学电子工程系。主要研究方向为薄膜晶体管（TFT）工艺、器件与电路及其在平板显示(FPD)中的应用。2003年7月于上海交通大学获工学博士学位。2003年至2008年先后在上海广电NEC、昆山龙腾光电和上海天马等国内几家主要平板显示制造企业从事与TFT相关的工艺开发、产品设计和新技术研发工作等。 本书填补了国内薄膜晶体管技术教材领域的空白。内容定位于讲解和阐述与薄膜晶体管技术相关的基础原理，包括材料物理、器件物理、工艺原理和实际应用原理等；读者定位是大专院校的本科生和研究生以及平板显示产业界无相关基础的工程师等。 本书作者结合自身的教学实际经验，在内容讲解顺序上另辟蹊径，即按照从应用原理到器件物理再到工艺原理的顺序阐述。具体而言，先从薄膜晶体管在平板显示的有源矩阵中的应用原理讲起，并由此引出实际应用对TFT器件特性的基本要求；接着便详细阐述了薄膜晶体管相关的材料物理和器件物理，并由此确定了TFT工艺的技术目标，其中非晶硅/多晶硅禁带缺陷态的产生机理和分布特点以及TFT器件的理论模型和特性参数提取方法等内容为着重阐述之处；第三部分，重点讲解了薄膜晶体管阵列的单项工艺原理和工艺整合原理，其中非晶硅TFT的5MASK工艺流程和多晶硅TFT的6MASK工艺流程正是当前产业界的主流技术。 虽然本书以非晶硅/多晶硅薄膜晶体管技术的相关原理作为主要阐述目标，作者结合自身在产业界的实际工作经验对TFT实际生产中的相关实务也多有涉及。此外，在本书的结尾处作者还根据自身的研究经验对当前比较热门的以a-IGZOTFT为代表的非晶氧化物薄膜晶体管（AOSTFT）技术进行了简单的总结和展望。